Theo SCMP, Bộ Công nghiệp và Công nghệ thông tin Trung Quốc (MIIT) tuyên bố máy in thạch bản DUV dùng để in các mẫu mạch cực kỳ phức tạp lên các tấm silicon mà họ phát triển "đã đạt được những đột phá đáng kể về công nghệ, sở hữu quyền sở hữu trí tuệ nhưng vẫn chưa đưa ra thị trường". Mặc dù vậy, thông tin về công ty đứng đằng sau hai chiếc máy này chưa được nêu tên.
Một trong những máy DUV mà Trung Quốc phát triển có độ chính xác phủ dưới 8nm
ẢNH: CHỤP MÀN HÌNH SCMP
Danh sách được MIIT công bố cho biết một trong những máy quang khắc DUV hoạt động ở bước sóng 193nm, với độ phân giải dưới 65nm và độ chính xác phủ dưới 8nm. Máy DUV khác có bước sóng 248nm, với độ phân giải 110nm và độ chính xác phủ 25nm.
Hai máy này vẫn còn kém xa so với các cỗ máy sản xuất tiên tiến nhất hiện có trên thị trường. Ví dụ, một trong những máy DUV tiên tiến nhất của ASML đến từ Hà Lan có thể hoạt động ở độ phân giải dưới 38nm, cùng độ chính xác phủ là 1,3nm. Máy DUV cũng chậm hơn so với máy quang khắc cực tím (EUV) sử dụng ánh sáng có bước sóng chỉ 13,5nm, sắc nét hơn gần 14 lần so với bước sóng 195nm của DUV.
Được biết, chính phủ Trung Quốc đã dành nhiều năm để theo đuổi mục tiêu tự cung tự cấp công nghệ bán dẫn, nhưng tiến độ sản xuất các hệ thống quang khắc cần thiết để sản xuất hàng loạt chip tiên tiến vẫn còn chậm. Hầu như toàn bộ máy quang khắc của nước này vẫn đến từ ASML, công ty đã ngừng cung cấp máy EUV tiên tiến của mình cho khách hàng Trung Quốc cũng như bị chính phủ Hà Lan cấm cung cấp máy DUV cho khách hàng có trụ sở tại Trung Quốc.
Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), một doanh nghiệp nhà nước Trung Quốc, được xem là niềm hy vọng lớn nhất của quốc gia này trong việc phát triển các hệ thống quang khắc tiên tiến riêng. Công ty đã bị Mỹ đưa vào danh sách đen vào tháng 12.2022 và kém xa ASML, sẽ cần những đột phá trên nhiều công nghệ và mạng lưới nhà cung cấp để vượt qua các hạn chế.
Bất chấp những khó khăn, SMEE đã đạt được một số tiến bộ đáng kể. Theo dữ liệu đăng ký được công bố vào đầu tuần này, công ty đã nộp bằng sáng chế cho "Máy phát bức xạ EUV và thiết bị in thạch bản" vào tháng 3 năm ngoái.
Bình luận (0)